2026年1月31日 / 最終更新日時 : 2026年1月31日 KsLABO ALD なぜALDは膜厚精度が高いのか｜成膜原理から比較まで ALD（原子層堆積法）がなぜ膜厚精度に優れているのかを平易に解説。自己終端反応とプロセスウィンドウの関係、熱CVD・パルスCVDとの違い、実装での工夫やポストアニールまで、産業適用視点でまとめています。
2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年2月7日 KsLABO 技術解説 デバイス評価装置の専用設計｜評価条件に合わせた評価装置設計 評価装置の設計・製作フローを詳しく解説します。一般的事例の紹介も掲載。
2026年1月27日 / 最終更新日時 : 2026年1月27日 KsLABO 技術解説 ウェハー洗浄ジグの役割と特長｜工程安定化のための治具技術 手動洗浄で用いるウェハー洗浄ジグの選び方について、洗浄条件や汚れの性質から整理し、横型・縦型の使い分けを解説します。
2026年1月24日 / 最終更新日時 : 2026年2月8日 KsLABO ヘテロ集積化 ヘテロ集積化における接合技術｜半導体・先端デバイスの集積化 ヘテロ集積化の全体像と、接合技術を中心とした基本的な考え方・事例を紹介します。
2026年1月29日 / 最終更新日時 : 2026年1月29日 KsLABO 技術解説 高温センサ評価装置 高温ガス雰囲気中でのセンサ性能評価に対応した研究開発向け評価装置。用途に応じたカスタマイズ設計が可能です。
2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 ゼロバランス測定によるハーメチックシール評価｜気密性試験・非破壊評価 ゼロバランス測定によるハーメチックシールの評価方法を解説。圧力差と力の挙動を利用した気密性評価原理、測定手順、装置設計上のポイントをわかりやすく紹介します。
2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO 技術解説 触覚センサ検査装置 触覚センサの評価装置紹介ページです。自動ステージによる位置制御で触覚センサ出力と比較分力計出力を比較し、位置依存特性や耐久性を評価する装置の設計思想と用途を解説します。
2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO 技術解説 ブレード試験装置 ウェハ接合面の剥離評価を行う「ブレード試験装置」の紹介ページです。実績ベースで改良された構成を商品化しつつ、顕微鏡条件に合わせたカスタマイズにも対応。測定代行サービスについてもご案内します。
2026年1月27日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO 技術解説 ウェハー洗浄ジグの選び方｜手動洗浄における判断ポイント 手動洗浄に用いるウェハー洗浄ジグの選び方について、実務上の判断ポイントから整理します。横型・縦型それぞれの特長を踏まえ、条件に応じた考え方を解説します。
2026年1月26日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 レーザーによる部分転写技術について 接合技術とレーザー界面制御を組み合わせたレーザー部分転写の原理と特長、用途を整理しています。
