2026年1月31日 / 最終更新日時 : 2026年1月31日 KsLABO ALD なぜALDは膜厚精度が高いのか｜成膜原理から比較まで ALD（原子層堆積法）がなぜ膜厚精度に優れているのかを平易に解説。自己終端反応とプロセスウィンドウの関係、熱CVD・パルスCVDとの違い、実装での工夫やポストアニールまで、産業適用視点でまとめています。
2026年1月29日 / 最終更新日時 : 2026年1月29日 KsLABO 技術解説 高温センサ評価装置 高温ガス雰囲気中でのセンサ性能評価に対応した研究開発向け評価装置。用途に応じたカスタマイズ設計が可能です。
2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 ゼロバランス測定によるハーメチックシール評価｜気密性試験・非破壊評価 ゼロバランス測定によるハーメチックシールの評価方法を解説。圧力差と力の挙動を利用した気密性評価原理、測定手順、装置設計上のポイントをわかりやすく紹介します。
2026年1月27日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO 技術解説 ウェハー洗浄ジグの選び方｜手動洗浄における判断ポイント 手動洗浄に用いるウェハー洗浄ジグの選び方について、実務上の判断ポイントから整理します。横型・縦型それぞれの特長を踏まえ、条件に応じた考え方を解説します。
2026年1月27日 / 最終更新日時 : 2026年1月27日 KsLABO 技術解説 ウェハー洗浄ジグの役割と特長｜工程安定化のための治具技術 手動洗浄で用いるウェハー洗浄ジグの選び方について、洗浄条件や汚れの性質から整理し、横型・縦型の使い分けを解説します。
2026年1月26日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 レーザーによる部分転写技術について 接合技術とレーザー界面制御を組み合わせたレーザー部分転写の原理と特長、用途を整理しています。
2026年1月24日 / 最終更新日時 : 2026年1月27日 KsLABO ヘテロ集積化 ヘテロ集積化における接合技術｜半導体・先端デバイスの集積化 ヘテロ集積化の全体像と、接合技術を中心とした基本的な考え方・事例を紹介します。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 接合強度試験の基本と評価方法 接合部の強度を評価する代表的な試験方法について、基本的な考え方を紹介します。 シェア試験、引張（プル）試験、ブレード試験など、評価手法の特徴を整理し、 研究開発段階での検討ポイントをまとめています。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 ガラスとシリコンを接合する技術｜陽極接合（Anodic Bonding） 電界を利用してガラスとシリコンを接合する陽極接合の基本的な考え方を解説します。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 液相が隙間を満たす接合技術｜TLP接合（Transient Liquid Phase Bonding) 一時液相形成を利用するTLP接合の基本的な考え方と特長を解説します。
