2026年1月28日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 ゼロバランス測定によるハーメチックシール評価｜気密性試験・非破壊評価 ゼロバランス測定によるハーメチックシールの評価方法を解説。圧力差と力の挙動を利用した気密性評価原理、測定手順、装置設計上のポイントをわかりやすく紹介します。
2026年1月26日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 レーザーによる部分転写技術について 接合技術とレーザー界面制御を組み合わせたレーザー部分転写の原理と特長、用途を整理しています。
2026年1月24日 / 最終更新日時 : 2026年1月27日 KsLABO ヘテロ集積化 ヘテロ集積化における接合技術｜半導体・先端デバイスの集積化 ヘテロ集積化の全体像と、接合技術を中心とした基本的な考え方・事例を紹介します。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 接合強度試験の基本と評価方法 接合部の強度を評価する代表的な試験方法について、基本的な考え方を紹介します。 シェア試験、引張（プル）試験、ブレード試験など、評価手法の特徴を整理し、 研究開発段階での検討ポイントをまとめています。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 表面活性化による化学結合｜ガラス-PDMS 永久接合 表面活性化を利用したガラス-PDMS永久接合の基本的な考え方を解説します。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 ガラスとシリコンを接合する技術｜陽極接合（Anodic Bonding） 電界を利用してガラスとシリコンを接合する陽極接合の基本的な考え方を解説します。
2026年1月17日 / 最終更新日時 : 2026年1月28日 KsLABO ヘテロ集積化 液相が隙間を満たす接合技術｜TLP接合（Transient Liquid Phase Bonding) 一時液相形成を利用するTLP接合の基本的な考え方と特長を解説します。
2026年1月15日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 中間層を用いた接合技術｜拡散接合（Diffusion Bonding） 拡散接合（Diffusion Bonding）の基本的な考え方と特長を解説します。
2026年1月15日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 中間材料を使わない接合技術｜直接接合（Direct Bonding） 中間材料を使わずにウェハーを直接接合する「直接接合（Direct Bonding）」について、 基本的な考え方と特徴を紹介します。
2026年1月15日 / 最終更新日時 : 2026年1月25日 KsLABO ヘテロ集積化 ウェハー接合（Wafer Bonding）の基礎｜用途と主要方式 ウェハー接合（Wafer Bonding）の役割と代表的な接合方式、それぞれの特徴を一般論として整理しています。
